The injection photo diode on the basis of nSi-nCdS-n⁺CdS heterostructures

It is shown that the nSi-nCdS-n⁺CdS heterostructures in operative (carrying) direction of current, while being exposed to low intensity radiation, operate as injection photodiodes. Their current sensitivity is Sλ ≈ 2.12 A/W at λ = 0.625 µm, which effectively represents a 4.2 increase in compare...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2013
1. Verfasser: Sapaev, I.B.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2013
Schriftenreihe:Физическая инженерия поверхности
Online Zugang:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/100309
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:The injection photo diode on the basis of nSi-nCdS-n⁺CdS heterostructures / I.B. Sapaev // Физическая инженерия поверхности. — 2013. — Т. 11, № 3. — С. 260–262. — Бібліогр.: 5 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge