Исследование кинетики образования фаз в системе MoSi₂-W в условиях нагрева при температурах 1500-1800 °С - Глушко, П.И.; Журавлёв, А.Ю.; Семёнов, Н.А.; Хованский, Н.А.; Широков, Б.М.; Шиян, А.В.; Щербакова, В.В. (Физическая инженерия поверхности, 2014)
Исследована кинетика перераспределения фаз в системе MoSi₂-W при 1500—1800 °С. Определены кинетические параметры роста низших силицидов (Mo, W)5Si₃ и уменьшение слоя высшего силицида MoSi₂ в зависимости от температуры окисления. Установлено, что стабильность системы MoSi₂-W превышает стабильность систем MoSi₂-Mo и WSi₂-W.