Резонансный метод определения толщин вакуумно-осажденных тонких пленок - Кузьмин, А.В.; Семененко, В.Е.; Стервоедов, Н.Г.; Посухов, А.С. (Інститут радіофізики і електроніки ім. А.Я. Усикова НАН України, 2008)
В данной работе рассмотрен метод измерения толщины нанесённой плёнки и скорости её напыления методом кварцевого датчика. Установлено, что при помощи резонансного метода может быть осуществлен непрерывный контроль толщин тонких пленок в диапазоне 10-100 нм. Определена структура пленок никеля и зависимость их толщин от резонансной частоты кварцевого кристалла.