Слоистые Ti-Cr–N-покрытия, получаемые методом вакуумно-дугового осаждения - Кунченко, Ю.В.; Кунченко, В.В.; Неклюдов, И.М.; Картмазов, Г.Н.; Андреев, А.А. (Вопросы атомной науки и техники, 2007)
Показана возможность формирования нанослойных TiNx/CrNx-покрытий методом вакуумно-дугового осаждения на плоскость конденсации, которая, вращаясь вокруг оси камеры установки типа «Булат», последовательно пересекает осаждаемые плазменные потоки, генерируемые тремя испарителями. На основе модели расчета скоростей осаждения (толщины) покрытий определены геометрические параметры, позволяющие формировать слоистые структуры в нанометровом диапазоне. Установлены закономерности изменений фазово-структурных характеристик, сжимающих макронапряжений (σ), микротвердости (HV) получаемых покрытий от давления азота (PN = 0.001...1.0 Па), ускоряющего потенциала подложки (U = - 100...- 300 В) и зависящей от него температуры конденсации (ТК = 330...750 °С) при напряженности фокусирующего магнитного поля (НФ = 0; 35 и 100 Э), определяющего соответствующие значения плотности ионного тока (j ≈ 5; 8…10 и ≥ 15 мА/см2). Установлен немонотонный характер зависимости HV от температуры конденсации и отжига в вакууме с максимумом значений ~ 35 ... 37 ГПа в области 450...500 °С.