Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
The investigation results of the DC magnetron sputtering system for synthesis of high-quality oxide coatings are presented. In the system oxygen, activated by an independent Inductively-Coupled Plasma (ICP) source, is introduced into an aluminum sputtering chamber as an alternative to conventional r...
Gespeichert in:
Datum: | 2007 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2007
|
Schriftenreihe: | Вопросы атомной науки и техники |
Schlagworte: | |
Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/111311 |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Zitieren: | Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings / J. Walkowicz, A.V. Zykov, S.V. Dudin, S.D. Yakovin // Вопросы атомной науки и техники. — 2007. — № 1. — С. 194-196. — Бібліогр.: 5 назв. — англ. |