Механические характеристики, структура и напряженное состояние вакуумно-дуговых TiN-покрытий, осажденных при подаче на подложку высоковольтных импульсов в процессе осаждения - Соболь, О.В.; Андреев, А.А.; Григорьев, С.Н.; Горбань, В.Ф.; Волосова, М.А.; Алешин, С.В.; Столбовой, В.А. (Вопросы атомной науки и техники, 2011)
Методом вакуумно-дугового осаждения с использованием ионной имплантации (способ PBIID) получены покрытия нитрида титана с твердостью, достигающей 62 ГПа и высокой стойкостью к износу при резании. Подача высоковольтных импульсов приводит к формированию стабильного структурного состояния мононитрида титана с кубической (структурный тип NaCl) кристаллической решеткой. Сравнение структуры и напряженного состояния покрытий нитрида титана, полученных по обычной схеме без подачи дополнительных высоковольтных импульсов на подложку в процессе осаждения и с наложением таких импульсов, показывает, что особенностями влияния импульсов являются значительное уменьшение размеров кристаллитов и их неориентированный рост при небольшом значении потенциалов смещения на подложке (от «плавающего» около -5 до -40 В), а также значительное снижение внутренних напряжений.