Динамика поведения капельной фазы в плазменных потоках, формирующихся в разрядных промежутках вакуумно-дуговых разрядов с рабочим газом аргоном - Свавильный, Н.Е. (Металлофизика и новейшие технологии, 2016)
В работе рассмотрена динамика поведения микрокапельной фазы материала катода при функционировании вакуумной дуги в присутствии пассивного рабочего газа Ar. С помощью методики многосеточного электростатического анализатора показано, что в плазменных потоках, распространяющихся от катода, присутствуют и положительно, и отрицательно заряженные микрочастицы. Положительный заряд на микрочастицах обусловлен их термоэмиссией. Интенсивность испарения свободно летящих капель, которые приобретают положительный заряд, определяется в основном плотностью и энергией ионного потока на них и зависит от значения электронной температуры плазмы в разрядном промежутке. Для вычисления скоростей испарения капель требуется знать как точный вид функций распределения по энергии для одно- и многозарядных ионов в потоке вдоль всей траектории движения капли, так и начальные значения температур и траектории микрочастиц, покидающих катод. На скорость испарения микрокапли при очень интенсивных энергетических потоках на неё сильное влияние может оказывать наличие парогазовой мишени, возникающей вокруг капли во время её испарения.