Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния

Исследовано влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость (ФП) структур макропористого кремния (МПК). Показано, что с увеличением толщины оксидного покрытия от 3 до 15 нм отрицательная ФП уменьшается по абсолютной величине, а при толщине оксидного покрытия 30 нм наблюдается только пол...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2013
Автор: Карась, Н.И.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України 2013
Назва видання:Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116737
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния / Н.И. Карась // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2013. — Вип. 48. — С. 136-139. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-116737
record_format dspace
spelling irk-123456789-1167372017-05-15T03:02:28Z Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния Карась, Н.И. Исследовано влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость (ФП) структур макропористого кремния (МПК). Показано, что с увеличением толщины оксидного покрытия от 3 до 15 нм отрицательная ФП уменьшается по абсолютной величине, а при толщине оксидного покрытия 30 нм наблюдается только положительная ФП. Объясняется это компенсацией положительным «встроенным» зарядом оксида отрицательного заряда «медленных» поверхностных уровней, расположенных на поверхности макропористого кремния. The influence of the oxide coating on the negative photoconductivity of macroporous silicon structures has been investigated. It is shown that with increasing oxide coating thickness from 3 to 15 nm negative photoconductivity decreases in absolute value. When the thickness of the oxide layer was 30 nm, there was only positive photoconductivity. This is due to compensation of the positive charge built-oxide negative charge of the «slow» surface levels on the surface of macroporous silicon. 2013 Article Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния / Н.И. Карась // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2013. — Вип. 48. — С. 136-139. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 0233-7577 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116737 621.315.592 ru Оптоэлектроника и полупроводниковая техника Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Исследовано влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость (ФП) структур макропористого кремния (МПК). Показано, что с увеличением толщины оксидного покрытия от 3 до 15 нм отрицательная ФП уменьшается по абсолютной величине, а при толщине оксидного покрытия 30 нм наблюдается только положительная ФП. Объясняется это компенсацией положительным «встроенным» зарядом оксида отрицательного заряда «медленных» поверхностных уровней, расположенных на поверхности макропористого кремния.
format Article
author Карась, Н.И.
spellingShingle Карась, Н.И.
Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния
Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
author_facet Карась, Н.И.
author_sort Карась, Н.И.
title Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния
title_short Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния
title_full Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния
title_fullStr Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния
title_full_unstemmed Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния
title_sort влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния
publisher Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
publishDate 2013
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/116737
citation_txt Влияние оксидного покрытия на отрицательную фотопроводимость в структурах макропористого кремния / Н.И. Карась // Оптоэлектроника и полупроводниковая техника: Сб. научн. тр. — 2013. — Вип. 48. — С. 136-139. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
series Оптоэлектроника и полупроводниковая техника
work_keys_str_mv AT karasʹni vliânieoksidnogopokrytiânaotricatelʹnuûfotoprovodimostʹvstrukturahmakroporistogokremniâ
first_indexed 2025-07-08T10:58:15Z
last_indexed 2025-07-08T10:58:15Z
_version_ 1837076103348355072
fulltext 136 ISSN 0233-7577. Oïòîýëåêòðîíèêà è ïîëóïðîâîäíèêîâàÿ òåõíèêà, 2013, âûï. 48 ÓÄÊ.621.315.592 . . Èññëåäîâàíî âëèÿíèå îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ íà îòðèöàòåëüíóþ ôîòî- ïðîâîäèìîñòü (ÔÏ) ñòðóêòóð ìàêðîïîðèñòîãî êðåìíèÿ (ÌÏÊ). Ïîêàçàíî, ÷òî ñ óâå- ëè÷åíèåì òîëùèíû îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ îò 3 äî 15 íì îòðèöàòåëüíàÿ ÔÏ óìåíüøà- åòñÿ ïî àáñîëþòíîé âåëè÷èíå, à ïðè òîëùèíå îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ 30 íì íàáëþäàåò- ñÿ òîëüêî ïîëîæèòåëüíàÿ ÔÏ. Îáúÿñíÿåòñÿ ýòî êîìïåíñàöèåé ïîëîæèòåëüíûì «âñòðîåííûì» çàðÿäîì îêñèäà îòðèöàòåëüíîãî çàðÿäà «ìåäëåííûõ» ïîâåðõíîñòíûõ óðîâíåé, ðàñïîëîæåííûõ íà ïîâåðõíîñòè ìàêðîïîðèñòîãî êðåìíèÿ. Êëþ÷åâûå ñëîâà: îòðèöàòåëüíàÿ ôîòîïðîâîäèìîñòü, «âñòðîåííûé» çàðÿä, èíâåð- ñèîííûé èçãèá çîí, «ìåäëåííûå» ïîâåðõíîñòíûå óðîâíè. Ìàêðîïîðèñòûé êðåìíèé � ïåðñïåêòèâíûé ìàòåðèàë ìèêðî- è îïòîýëåêòðîíèêè. Îñíîâíûì íåäîñòàòêîì äëÿ ïðèìåíåíèÿ ïîðèñòîãî êðåìíèÿ â îïòîýëåêòðîíèêå ÿâëÿåòñÿ íåñòàáèëüíîñòü åãî ôîòîýëåêòðè- ÷åñêèõ ñâîéñòâ. Äëÿ ïîâûøåíèÿ ñòàáèëüíîñòè ïðèìåíÿåòñÿ ïàññèâàöèÿ ïîâåðõíîñòè ñòðóêòóð ïîðèñòîãî êðåìíèÿ òåðìè÷åñêèì îêèñëåíèåì. Îá- ðàçóþùèéñÿ îêñèä êðåìíèÿ ñëóæèò ïðè ýòîì çàùèòíûì ïîêðûòèåì è ðå- çåðâóàðîì õðàíèìîãî â íåì «âñòðîåííîãî» çàðÿäà, âëèÿþùåãî íà ïîâåðõ- íîñòíûé èçãèá çîí â ìàêðîïîðèñòîì êðåìíèè.  ðàáîòå [1] áûëà îáíàðó- æåíà è èññëåäîâàíà îòðèöàòåëüíàÿ ñòàöèîíàðíàÿ ÔÏ â ñòðóêòóðàõ ìàêðî- ïîðèñòîãî êðåìíèÿ. Îòðèöàòåëüíàÿ ÔÏ òðàêòóåòñÿ êàê ìîíîïîëÿðíàÿ ÔÏ, ñîñðåäîòî÷åííàÿ â îáëàñòè ïðîñòðàíñòâåííîãî çàðÿäà (ÎÏÇ) è ñâÿ- çàííàÿ ñ ïîâåðõíîñòíûì ïðèëèïàíèåì îñíîâíûõ íîñèòåëåé çàðÿäà íà «ìåäëåííûõ» ïîâåðõíîñòíûõ óðîâíÿõ.  äàííîé ðàáîòå èññëåäîâàíî âëè- ÿíèå îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ («âñòðîåííîãî» çàðÿäà) íà îòðèöàòåëüíóþ ÔÏ ñòðóêòóð ìàêðîïîðèñòîãî êðåìíèÿ äëÿ èñïîëüçîâàíèÿ â êà÷åñòâå ôîòî- ïðèåìíèêîâ. Èñõîäíûì ìàòåðèàëîì áûë ìîíîêðèñòàëëè÷åñêèé n-Si c óäåëüíûì ñîïðîòèâëåíèåì 4,5 Îì ñì. Ìàêðîïîðû ãëóáèíîé 100 ìêì è äèàìåòðîì 4 ìêì áûëè ñôîðìèðîâàíû ìåòîäîì ýëåêòðîõèìè÷åñêîãî òðàâëåíèÿ â ðàñòâîðå ôòîðèñòîâîäîðîäíîé êèñëîòû. Ïîêðûòèå îêñèäà êðåìíèÿ òîëùèíîé 7�30 íì áûëî ñôîðìèðîâàíî ìåòîäîì ñóõîãî îêèñ- ëåíèÿ. Îìè÷åñêèå êîíòàêòû In�ïîðèñòûé êðåìíèé ôîðìèðîâàëèñü òàê: 1) î÷èñòêà ïîâåðõíîñòè ÌÏÊ â àòìîñôåðå âîäîðîäà ïðè òåìïåðàòóðå 500 C â òå÷åíèå 30 ìèí; 2) íàëîæåíèå ìàñêè íà ñòðóêòóðó ÌÏÊ è âà- êóóìíîå íàïûëåíèå In ïðè òåìïåðàòóðå ïîäëîæêè 150�200 C; 3) îòæèã ñòðóêòóðû In�ïîðèñòûé êðåìíèé â àòìîñôåðå âîäîðîäà ïðè òåìïåðàòó- ðå 400 C â òå÷åíèå 30 ìèí äëÿ äèôôóçèè In ÷åðåç ñëîé SiOx è óëó÷øå- íèÿ àäãåçèè In ñ ìàêðîïîðèñòûì êðåìíèåì. Êîýôôèöèåíò âûïðÿìëåíèÿ íà òàêèõ îáðàçöàõ íå ïðåâûøàë 1,1. © Í.È. Êàðàñü, 2013 137 Ôîòîïðîâîäèìîñòü èññëåäîâàëè ñòàíäàðòíûì ìåòîäîì ñ ïîñòîÿííûì (íå ìîäóëèðîâàííûì) îñâåùåíèåì ñ èñïîëüçîâàíèåì ïðîñòåéøåé ñõå- ìû: ïîñëåäîâàòåëüíîå ñîåäèíåíèå èñòî÷íèêà íàïðÿæåíèÿ, îáðàçöà ñ ñî- ïðîòèâëåíèåì r è íàãðóçî÷íîãî ñîïðîòèâëåíèÿ R, ñ êîòîðîãî íàíî- âîëüòìåòðîì Â2-38 ñíèìàëñÿ ïîëåçíûé ñèãíàë. Ôîòîïðîâîäèìîñòü èç- ìåðÿëè â ðåæèìå ìàêñèìàëüíîé ÷óâñòâèòåëüíîñòè ïðè R = r. Îñâåùåíèå ïðîâîäèëîñü íà äëèíå âîëíû 0,4 ìêì ñâåòîäèîäîì ïðè ïåðïåíäèêóëÿð- íîì ïàäåíèè ñâåòà íà ïîâåðõíîñòü ìàêðîïîðèñòîãî êðåìíèÿ. Èíòåíñèâ- íîñòü îñâåùåíèÿ ðåãóëèðîâàëàñü òîêîì ñâåòîäèîäà. Êàê âèäèì èç ðèñóíêà, ôîòîïðîâîäèìîñòü ñòðóêòóð ìàêðîïî- ðèñòîãî êðåìíèÿ çàâèñèò îò òîëùèíû îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ, êîòîðîå âëèÿåò êàê íà àáñîëþòíûå çíà÷åíèÿ ôîòîïðîâîäèìîñòè, òàê è íà åå çíàê è õà- ðàêòåð çàâèñèìîñòè ôîòîïðîâîäèìîñòè îò èíòåíñèâíîñòè îñâåùåíèÿ. Ïðè óâåëè÷åíèè òîëùèíû îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ îò 3 äî 15 íì îòðè- öàòåëüíàÿ ôîòîïðîâîäèìîñòü óìåíüøàåòñÿ ïî àáñîëþòíîé âåëè÷èíå (êðèâûå 1�3) è ïåðåõîäèò â ïîëîæèòåëüíóþ ïðè òîëùèíå îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ 30 íì (êðèâàÿ 4). Òåîðåòè÷åñêè ñòàöèîíàðíàÿ ÔÏ ïîëóïðîâîäíèêà ñ ïîëíîñòüþ èîíè- çèðîâàííûìè îáúåìíûìè óðîâíÿìè è ñ ó÷åòîì ðÿäà ïîâåðõíîñòíûõ ïðîöåññîâ, â òîì ÷èñëå è ïðèëèïàíèÿ, áûëà ðàññìîòðåíà â ðàáîòàõ [2�4], ãäå ïîêàçàíî, ÷òî ÔÏ ñîñòîèò èç òðåõ êîìïîíåíò: èç áèïîëÿðíîé ÔÏ ÎÏÇ b1, ìîíîïîëÿðíîé ÔÏ ÎÏÇ m1 è áèïîëÿðíîé ÔÏ êâàçèíåéòðàëü- íîãî îáúåìà b2. Áèïîëÿðíàÿ ÔÏ ÎÏÇ b1 âîçíèêàåò èç-çà ðàçâåäåíèÿ ãåíåðèðîâàííûõ ñâåòîì ýëåêòðîííî-äûðî÷íûõ ïàð ïîëåì, ñóùåñòâóþùèì â ÎÏÇ, ïðè÷åì ÔÏ îêàçûâàåòñÿ ëîêàëèçîâàííîé â ÎÏÇ ïîëóïðîâîäíèêà, ïîñêîëüêó ñèëû ýëåêòðè÷åñêîãî ïðèòÿæåíèÿ ìåæäó ýëåêòðîíàìè è äûðêàìè íå ïîçâîëÿþò èì óäàëÿòüñÿ íà ðàññòîÿíèÿ, ïðåâûøàþùèå òîëùèíó ÎÏÇ. Ìîíîïîëÿðíàÿ ÔÏ ÎÏÇ m1 îáóñëîâëåíà òåìè ïîäâèæíûìè íîñèòåëÿ- ìè çàðÿäà, êîòîðûå êîìïåíñèðóþò çàðÿä çàõâà÷åííûõ ïîâåðõíîñòíûìè óðîâíÿìè íåðàâíîâåñíûõ âîçáóæäåííûõ ñâåòîì íîñèòåëåé çàðÿäà ïðîòè- âîïîëîæíîãî çíàêà. Ïåðåìåùåíèå íåçàõâà÷åííûõ (ñâîáîäíûõ) âîçáóæ- äåííûõ ñâåòîì íîñèòåëåé ñòàíîâèòñÿ âîçìîæíûì òîëüêî ïàðàëëåëüíî ïîâåðõíîñòè â îáëàñòè LD (LD �äåáàåâñêàÿ äëèíà ýêðàíèðîâàíèÿ) [5] , ò. å. â êâàçèïîâåðõíîñòíîé îáëàñòè. ÔÏ ÎÏÇ m1 ìîæåò áûòü ïîëîæè- òåëüíîé è îòðèöàòåëüíîé â çàâèñèìîñòè îò èçãèáà çîí ó ïîâåðõíîñòè ïîëóïðîâîäíèêà. Ñëó÷àé ïîëîæèòåëüíîé ìîíîïîëÿðíîé ÔÏ ÎÏÇ m1 ðåà- ëèçóåòñÿ ïðè èñòîùàþùåì èçãèáå çîí, êîãäà ñêîðîñòü çàõâàòà íåîñíîâ- íûõ íîñèòåëåé çàðÿäà (äûðîê) çíà÷èòåëüíî ïðåâûøàåò ñêîðîñòü çàõâàòà ýëåêòðîíîâ. Åñëè áîëåå èíòåíñèâíûì áóäåò ïðèëèïàíèå îñíîâíûõ íîñèòå- ëåé (ýëåêòðîíîâ), òî ìîíîïîëÿðíàÿ ïîâåðõíîñòü ÔÏ áóäåò îòðèöàòåëü- íîé. Ïîñëåäíèé âàðèàíò ñîãëàñíî [4] âîçìîæåí ïðè èíâåðñèîííîì èçãèáå çîí.  íàøåì ñëó÷àå ýòî ñîîòâåòñòâó- åò çíà÷åíèþ ïîâåðõíîñòíîãî èçãèáà çîí Ys = �22,8 [1]. Çàâèñèìîñòü ôîòîïðîâîäèìîñòè ñòðóêòóð ìàêðîïîðèñòîãî êðåìíèÿ íà äëèíå âîëíû 0,4 ìêì îò èíòåíñèâíîñòè îñâåùåíèÿ ïðè ðàçíûõ òîëùèíàõ îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ: 1 � «ñîáñòâåííûé îêñèä» ( 3 íì); 2 � 7 íì; 3 � 15 íì; 4 � 30 íì 138 Îòðèöàòåëüíóþ ôîòîïðîâîäèìîñòü ñòðóêòóð ìàêðîïîðèñòîãî êðåì- íèÿ áåç òåðìè÷åñêîãî îêñèäà êðåìíèÿ (êðèâàÿ 1) èññëåäîâàëè â ðàáîòå [1]; åå òðàêòîâàëè êàê ìîíîïîëÿðíóþ ÔÏ â îáëàñòè ïðîñòðàíñòâåííîãî çàðÿäà, ñâÿçàííóþ ñ ïîâåðõíîñòíûì ïðèëèïàíèåì îñíîâíûõ íîñèòåëåé çàðÿäà íà «ìåäëåííûõ» ïîâåðõíîñòíûõ óðîâíÿõ. Ïîñëåäíèå ïðîÿâëÿþò ñåáÿ òåì, ÷òî âûçûâàþò âðåìåííûå ðåëàêñàöèè ÔÏ èç-çà òîãî, ÷òî çà- òðóäíåí îáìåí íîñèòåëÿìè ìåæäó ýòèìè óðîâíÿìè è çîíîé ïðîâîäèìî- ñòè â îáúåìå ïîëóïðîâîäíèêà.  íàøèõ ýêñïåðèìåíòàõ íàáëþäàëèñü òà- êèå äîëãîâðåìåííûå ðåëàêñàöèè (äî 10 ìèí) ôîòîïðîâîäèìîñòè ïðè âêëþ÷åíèè è âûêëþ÷åíèè îñâåùåíèÿ. Èçìåíåíèå çíà÷åíèÿ è çíàêà ÔÏ â äàííîì ñëó÷àå ïðè óâåëè÷åíèè òîëùèíû îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ îáúÿñíÿåòñÿ ñëåäóþùèì îáðàçîì.  ïðî- öåññå îêèñëåíèÿ â òåðìè÷åñêîì äèîêñèäå êðåìíèÿ ôîðìèðóåòñÿ ïîëî- æèòåëüíûé ôèêñèðîâàííûé çàðÿä Qf , ëîêàëèçîâàííûé â óçêîì ñëîå äè- îêñèäà òîëùèíîé îêîëî 2 íì, ïðèëåãàþùåì ê ìåæôàçíîé ãðàíèöå Si- SiO2 [6]. Ïî ìåðå óâåëè÷åíèÿ òîëùèíû îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ âîçðàñòàåò åãî ïîëîæèòåëüíûé çàðÿä [4], êîòîðûé âñå â áîëüøåé ñòåïåíè êîìïåí- ñèðóåò îòðèöàòåëüíûé çàðÿä «ìåäëåííûõ» ïîâåðõíîñòíûõ óðîâíåé, âîç- íèêàþùèé â ðåçóëüòàòå ïðèëèïàíèÿ íà íèõ îñíîâíûõ íîñèòåëåé çàðÿäà (ýëåêòðîíîâ). Ïðè ýòîì èíâåðñèîííûé èçãèá çîí ó ïîâåðõíîñòè ìàêðî- ïîðèñòîãî êðåìíèÿ ïðåâðàùàåòñÿ â èñòîùàþùèé. Òàêèì îáðàçîì, ïî ìåðå óâåëè÷åíèÿ òîëùèíû îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ è êîìïåíñàöèè îòðèöà- òåëüíîãî çàðÿäà «ìåäëåííûõ» ïîâåðõíîñòíûõ óðîâíåé óìåíüøàåòñÿ ïî âåëè÷èíå è îòðèöàòåëüíàÿ ôîòîïðîâîäèìîñòü (êðèâûå 1�3), êîòîðàÿ ïðè òîëùèíå îêñèäà 30 íì ïåðåõîäèò â ïîëîæèòåëüíóþ (êðèâàÿ 4). 1. Ïðîâåäåíî ýêñïåðèìåíòàëüíîå èññëåäîâàíèå âëèÿíèÿ îê- ñèäíîãî ïîêðûòèÿ òîëùèíîé 3�30 íì íà îòðèöàòåëüíóþ ôîòîïðîâîäè- ìîñòü ñòðóêòóð ìàêðîïîðèñòîãî êðåìíèÿ. 2. Óñòàíîâëåíî, ÷òî íàëè÷èå îêñèäíîãî ïîêðûòèÿ ñòðóêòóð ÌÏÊ èç-çà «âñòðîåííîãî» â íåì ïîëîæèòåëüíîãî çàðÿäà ïîçâîëÿåò â øèðîêèõ ïðå- äåëàõ èçìåíÿòü ÔÏ ÌÏÊ. Ïðè ýòîì íàáëþäàåòñÿ èçìåíåíèå êàê çíà÷å- íèÿ, òàê è çíàêà ÔÏ. 3. Ïðåäëîæåí ìåõàíèçì íàáëþäàåìîãî ýôôåêòà èçìåíåíèÿ çíàêà è çíà÷åíèÿ ÔÏ, êîòîðûé çàêëþ÷àåòñÿ â êîìïåíñàöèè ïîëîæèòåëüíûì «âñòðîåííûì» çàðÿäîì îêñèäà êðåìíèÿ îòðèöàòåëüíîãî çàðÿäà «ìåäëåííûõ» ïîâåðõíîñòíûõ óðîâíåé ñòðóêòóð ÌÏÊ.Ïðè óâåëè÷åíèè òîëùèíû îê- ñèäíîãî ïîêðûòèÿ óâåëè÷èâàåòñÿ è ïîëîæèòåëüíûé «âñòðîåííûé» çàðÿä è ïðè îïðåäåëåííîì åãî çíà÷åíèè îòðèöàòåëüíàÿ ôîòîïðîâîäèìîñòü ïå- ðåõîäèò â ïîëîæèòåëüíóþ. N. Karas INFLUENCE OXIDE COATINGS ON NEGATIVE PHOTOCONDUCTIVITY IN STRUCTURES MACROPOROUS SILICON The influence of the oxide coating on the negative photoconductivity of macroporous silicon structures has been investigated. It is shown that with increasing oxide coating thickness from 3 to 15 nm negative photoconductivity decreases in absolute value. When the thickness of the oxide layer was 30 nm, there was only positive photoconduc- tivity. This is due to compensation of the positive charge built-oxide negative charge of the «slow» surface levels on the surface of macroporous silicon. Keywords: negative photoconductivity, «built-in» charge, inversion band bending, «slow» surface levels. 1. Êàðàñü Í.È. Îòðèöàòåëüíàÿ ôîòîïðîâîäèìîñòü â ñòðóêòóðàõ ìàêðîïîðèñòîãî êðåìíèÿ // Íîâ³ òåõíîëî㳿. � 2010. � ¹ 1. � Ñ. 118�123. 2. Çóåâ Â.À., Ñà÷åíêî À.Â., Òîëïûãî Ê.Á. Êèíåòèêà ôîòîïðîâîäèìîñòè â ïîëóïðîâîä- íèêàõ, îáëàäàþùèõ óðîâíÿìè çàõâàòà íåîñíîâíûõ íîñèòåëåé íà ïîâåðõíîñòè // ÔÒÒ. � 1965. � 6, ¹ 10. � Ñ. 3174�3177. 3. Çóºâ Â.Î., Ñà÷åíêî À.Â. Òåîðåòè÷íå äîñë³äæåííÿ ïîâåðõíåâî-÷óòëèâèõ ôîòîåôåêò³â ó Si // ÓÔÆ. � 1973. � 18, ¹ 10. � 1680�1687. 4. Ñà÷åíêî À.Â., Ñíèòêî Î.Â. Ôîòîýôôåêòû â ïðèïîâåðõíîñòíûõ ñëîÿõ ïîëóïðîâîä- íèêîâ. � Êèåâ: Íàóê. äóìêà, 1984. � 232 ñ. 5. Ëèòîâ÷åíêî Â. Ã., Ëÿøåíêî Â.È. Ïðèëèïàíèå íåðàâíîâåñíûõ íîñèòåëåé òîêà íà ïîâåðõíîñòè ãåðìàíèÿ // ÔÒÒ. � 1962. � 4, ¹ 8. � Ñ. 1985�1993. 6. Àëåêñàíäðîâ Î.Â., Äóñü À.È. Ìîäåëü îáðàçîâàíèÿ ôèêñèðîâàííîãî çàðÿäà â òåðìè- ÷åñêîì äèîêñèäå êðåìíèÿ // ÔÒÏ. � 2011. � 45, ¹ 4. � Ñ. 474�480. Èíñòèòóò ôèçèêè ïîëóïðîâîäíèêîâ èì. Â.Å. Ëàøêàðåâà ÍÀÍ Óêðàèíû Ïðîñïåêò Íàóêè, 41 03028 Êèåâ Òåëåôîí: 525 23 09 E-mail: nikar@isp.kiev.ua Ïîëó÷åíî 06.06.2013