Стиль цитування APA (7-ме видання)

Min’ko, V., Shepeliavyi, P., Indutnyy, I., & Litvin, O. (2007). Fabrication of silicon grating structures using interference lithography and chalcogenide inorganic photoresist. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України.

Чикаго стиль цитування (17-те видання)

Min’ko, V.I, P.E Shepeliavyi, I.Z Indutnyy, та O.S Litvin. Fabrication of Silicon Grating Structures Using Interference Lithography and Chalcogenide Inorganic Photoresist. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2007.

Стиль цитування MLA (8-ме видання)

Min’ko, V.I, et al. Fabrication of Silicon Grating Structures Using Interference Lithography and Chalcogenide Inorganic Photoresist. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2007.