APA (7th ed.) Citation

Begun, E., Bratus’, O., Evtukh, A., Kaganovich, E., & Manoilov, E. (2007). Charge characteristics of the MOS structures with oxide films containing Si nanocrystals. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України.

Chicago Style (17th ed.) Citation

Begun, E.V, O.L Bratus’, A.A Evtukh, E.B Kaganovich, and E.G Manoilov. Charge Characteristics of the MOS Structures with Oxide Films Containing Si Nanocrystals. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2007.

MLA (8th ed.) Citation

Begun, E.V, et al. Charge Characteristics of the MOS Structures with Oxide Films Containing Si Nanocrystals. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2007.