Donets, V., Melnichenko, L., Shaykevich, I., & Lomakina, O. (2009). Determination of refractive index dispersion and thickness of thin antireflection films TiO₂ and Si₃N₄ on surfaces of silicon photoelectric converters. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Donets, V.V, L.Y Melnichenko, I.A Shaykevich, та O.V Lomakina. Determination of Refractive Index Dispersion and Thickness of Thin Antireflection Films TiO₂ and Si₃N₄ on Surfaces of Silicon Photoelectric Converters. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2009.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Donets, V.V, et al. Determination of Refractive Index Dispersion and Thickness of Thin Antireflection Films TiO₂ and Si₃N₄ on Surfaces of Silicon Photoelectric Converters. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2009.