Photoinduced structural changes in As₁₀₀₋xSx layers
The present paper is concerned with investigations of photoinduced structural changes in As100-xSx layers. Optical constants of variously treated (virgin, exposed, annealed) samples were determined from optical transmission measurements in the spectral region 400-2500 nm. The energy dependence of re...
Gespeichert in:
Datum: | 2000 |
---|---|
Hauptverfasser: | , , |
Format: | Artikel |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2000
|
Schriftenreihe: | Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics |
Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/121137 |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Zitieren: | Photoinduced structural changes in As₁₀₀₋xSx layers / A. Stronski, M. Vlcek, A. Sklenar // Semiconductor Physics Quantum Electronics & Optoelectronics. — 2000. — Т. 3, № 3. — С. 394-399. — Бібліогр.: 29 назв. — англ. |