Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства

Разработана технология приготовления тонких кристаллических пленок TmS методом дискретного вакуумно-термического испарения предварительно синтезированного материала. При комнатной температуре измерены зависимости удельного электросопротивления и постоянной Холла от размеров характеризирующих частиц...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2017
Автори: Тетелошвили, М.Г., Джабуа, З.У., Гигинеишвили, А.В.
Формат: Стаття
Мова:Russian
Опубліковано: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2017
Назва видання:Журнал физики и инженерии поверхности
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122609
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства / М.Г. Тетелошвили, З.У. Джабуа, А.В. Гигинеишвили // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 1. — С. 44-46. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-122609
record_format dspace
spelling irk-123456789-1226092017-07-16T03:03:33Z Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства Тетелошвили, М.Г. Джабуа, З.У. Гигинеишвили, А.В. Разработана технология приготовления тонких кристаллических пленок TmS методом дискретного вакуумно-термического испарения предварительно синтезированного материала. При комнатной температуре измерены зависимости удельного электросопротивления и постоянной Холла от размеров характеризирующих частиц приготовленных пленок. Показано, что электрические параметры пленок TmS сильно зависят от размеров характеризующих частиц. Розроблено технологію приготування тонких кристалічних плівок TmS методом дискретного вакуумно-термічного випаровування попередньо синтезованого матеріалу. При кімнатній температурі виміряні залежності питомого електроопору та постійної Холла від розмірів характеризуючих частинок приготованих плівок. Показано, що електричні параметри плівок TmS сильно залежать від розмірів характеризуючих частинок. The technology of preparation of thin crystal films of TmS by method discrete vacuum-thermal evaporation of previously synthesized material is developed. At the room temperature dependences of specific resistance and Hall’s constant on the sizes of the characterizing particles of the prepared films are measured. It is shown that electric parameters of films of TmS strongly depend on the sizes of the characterizing particles. 2017 Article Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства / М.Г. Тетелошвили, З.У. Джабуа, А.В. Гигинеишвили // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 1. — С. 44-46. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. 2519-2485 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122609 541-67:661.863/888 ru Журнал физики и инженерии поверхности Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Russian
description Разработана технология приготовления тонких кристаллических пленок TmS методом дискретного вакуумно-термического испарения предварительно синтезированного материала. При комнатной температуре измерены зависимости удельного электросопротивления и постоянной Холла от размеров характеризирующих частиц приготовленных пленок. Показано, что электрические параметры пленок TmS сильно зависят от размеров характеризующих частиц.
format Article
author Тетелошвили, М.Г.
Джабуа, З.У.
Гигинеишвили, А.В.
spellingShingle Тетелошвили, М.Г.
Джабуа, З.У.
Гигинеишвили, А.В.
Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства
Журнал физики и инженерии поверхности
author_facet Тетелошвили, М.Г.
Джабуа, З.У.
Гигинеишвили, А.В.
author_sort Тетелошвили, М.Г.
title Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства
title_short Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства
title_full Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства
title_fullStr Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства
title_full_unstemmed Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства
title_sort приготовление тонких пленок tms и их электрофизические свойства
publisher Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
publishDate 2017
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122609
citation_txt Приготовление тонких пленок TmS и их электрофизические свойства / М.Г. Тетелошвили, З.У. Джабуа, А.В. Гигинеишвили // Журнал физики и инженерии поверхности. — 2017. — Т. 2, № 1. — С. 44-46. — Бібліогр.: 6 назв. — рос.
series Журнал физики и инженерии поверхности
work_keys_str_mv AT tetelošvilimg prigotovlenietonkihplenoktmsiihélektrofizičeskiesvojstva
AT džabuazu prigotovlenietonkihplenoktmsiihélektrofizičeskiesvojstva
AT gigineišviliav prigotovlenietonkihplenoktmsiihélektrofizičeskiesvojstva
first_indexed 2025-07-08T22:03:00Z
last_indexed 2025-07-08T22:03:00Z
_version_ 1837118676040417280
fulltext 44 Журнал фізики та інженерії поверхні, 2017, том 2, № 1, сс. 44–46; Журнал физики и инженерии поверхности, 2017, том 2, № 1, сс. 44–46; Journal of Surface Physics and Engineering, 2017, vol. 2, No. 1, pp. 44–46 © Тетелошвили М. Г., Джабуа З. У., Гигинеишвили А. В., 2017 УДК 541-67:661.863/888 ПРИГОТОВЛЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК TmS И ИХ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА М. Г. Тетелошвили, З. У. Джабуа, А. В. Гигинеишвили Грузинский технический университет, департамент инженерной физики, Тбилиси, Грузия Поступила в редакцию 03.05.2017 Разработана технология приготовления тонких кристаллических пленок TmS методом дискрет- ного вакуумно-термического испарения предварительно синтезированного материала. При ком- натной температуре измерены зависимости удельного электросопротивления и постоянной Холла от размеров характеризирующих частиц приготовленных пленок. Показано, что электрические параметры пленок TmS сильно зависят от размеров характеризующих частиц. Ключевые слова: пленка, напыление, удельное электросопротивление, постоянная Холла, характеризующая частица. ПРИГОТУВАННЯ ТОНКИХ ПЛІВОК TmS ТА ЇХ ЕЛЕКТРОФІЗИЧНІ ВЛАСТИВОСТІ М. Г. Тетелошвілі, З. У. Джабуа, А. В. Гігінеішвілі Розроблено технологію приготування тонких кристалічних плівок TmS методом дискретно- го вакуумно-термічного випаровування попередньо синтезованого матеріалу. При кімнатній температурі виміряні залежності питомого електроопору та постійної Холла від розмірів характе- ризуючих частинок приготованих плівок. Показано, що електричні параметри плівок TmS сильно залежать від розмірів характеризуючих частинок. Ключові слова: плівка, нанесення, питомий електроопір, постійна Холла, характеризуючі ча- стинки. PREPARING OF TmS THIN FILMS AND THE ELECTROPHYSICAL PROPERTIES M. G. Teteloshvili, Z. U. Dzhabua, A. V. Gigineishvili The technology of preparation of thin crystal films of TmS by method discrete vacuum-thermal evaporation of previously synthesized material is developed. At the room temperature dependences of specific resistance and Hall’s constant on the sizes of the characterizing particles of the prepared films are measured. It is shown that electric parameters of films of TmS strongly depend on the sizes of the characterizing particles. Keywords: a film, a dusting, specific resistance, Hall’s constant, the characterizing particle. Мо н о сул ь ф и д ы р ед ко з е м е л ь н ы х элементов (РЗЭ) являются перспективными материалами для микроэлектроники. На их основе разработаны тензодатчики, термогенераторы, устройства для записи и хранения информации и т. д. [1–5] Но не все моносульфиды РЗЭ, особенно в виде тон- ких пленок, исследованы достаточно полно. К таким малоисследованным материалам относится моносульфид тулия. Целью представленной работы являлась разработка технологии приготовления пле- нок моносульфида тулия и исследование их электрофизических свойств. Пленки TmS были приготовлены мето- дом дискретного вакуумно-термического испарения предварительно синтезирован- ного материала на различных подложках: монокристаллический кремний, ситалл, сапфир, кварц. Подложки имели форму прямоугольного паралелепипеда размерами 15 × 8 × 0,5 мм . При напылении пленок ва- куум в рабочей камере составлял ~10–5 Па, температура испарителя равнялась ~2750 K, температура подложки варьировалась в об- ласти 720–1200 ± 5 K. Расстояние от ис- парителя до подложки составляло 70 мм. Скорость напыления составляла ~68–75 Å/с. Толщина пленок варьировалась в диапазоне 0,3–0,8 мкм. Многочисленные эксперименты показали, что оптимальным размером зерен напыляемого материала является 80–90 мкм. М. Г. ТЕТЕЛОШВИЛИ, З. У. ДЖАБУА, А. В. ГИГИНЕИШВИЛИ 45ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1 Как показал рентгенодифракционный ана- лиз при температурах подложки 720–910 K образуются однофазные поликристалли- чекие пленки, только в отдельных случаях на рентгенодифрактограммах наблюдались дополнительные максимумы, соответству- ющие малым количествам Tm2S3 и они, по-видимому, носили случайный характер. В диапазоне температур 935–1120 K пленки являлись однофазными, а при более высоких температурах однофазность нарушается — в пленках наблюдается вторая фаза Tm5S7. Таким образом, можно заключить, что опти- мальной температурой подложки является 935–1120 К. Приготовленные пленки имели темно-желтый цвет. Рентгеновский микрозондовый ана- лиз показал, что пленки содержат 50,2 % Tm и 49,8 % S. Согласно снимкам поверх- ности пленок снятых во вторичных рентге- новских лучах, компоненты распределены равномерно. Анализ рентгенодифрактограмм и соот- ветствующих электронограмм показал, что приготовленные пленки имеют кубическую решетку типа NaCl c параметром рещетки a = 5,39 ± 0,05 Å, что хорошо согласуется с параметром решетки объемного кристалла TmS (a = 5,417 Å) [6]. Статистическая обработка снимков снятых электронным сканирующим микроскопом с поверхности пленок TmS приготовленных при температуре подложки 980 К, показала, что размер характеризующих частиц изменя- ется в пределах 18–57 нм, при этом ~70 % частиц имеют диаметр 32 нм. Исследования показали, что параметр решетки пленок зависит от размера харак- теризующих частиц, в частности, с увеличе- нием этого размера увеличивается параметр решетки, что, по-видимому, связано с вли- янием сил поверхностных напряжений до и после конденсации пленки на по- дложке: частицам малых размеров со- ответствует большее давление, которое формируется внутри частиц под влиянием поверхностных сил. Эксперименты показали, что характерные размеры частиц зависят от температуры под ложки в случае постоянных других технологических параметров (тем- пература испарителя, состав испаряемого вещества и размер зерен порошка, расстоя- ние от испарителя до подложки). В частнос- ти, при снижении температуры подложки снижаются размеры характеризующих час- тиц. Например, при температуре подложки 930 K размеры характеризующих частиц равны ~18 нм, а при температуре подложки 1115 K — ~48 нм. При комнатной температуре прове- дено измерение зависимости удельно- го электросопротивления и постоянной Холла от размеров характеризующих час- тиц. Все измерения проводили на одних и тех же однофазных пленках. Удельное электрическое сопротивление измеряли компенсационным методом, постоянную Холла — при постоянном магнитном поле напряженностью 16 × 105 A/м. Точность из- мерения удельного сопротивления была не хуже 3–4 %, а постоянной Холла — 8–10 %. На рис. 1 показана зависимость удельного сопротивления от размера характеризующих частиц. Как видно, при увеличении размера характеризующих частиц удельное сопро- тивление возрастает. Нами также измерено зависимость температурного коэффициента сопротивления от размера зерна, который показал, что увеличения размера зерен температурный коэффициент сопроти- вления возрастает от ~2·10−4 до 50·10−4 K (рис. 2). Что касается постоянной Холла, с увеличением размеров характеризу- ющих частиц она уменьшается, как это видно из рис. 3. Постоянная Холла имеет отрицательный знак, что свидетельству- ет о том, что носителями заряда являются электроны. На основе экспериментальных данных рассчитана концентрация электронов при однозонном приближений (рис. 3). Как видно из рисунка с увеличением размеров 10 –I gρ , 1 02 , О м ∙с м 8 6 0 10 20 30 L, нм 40 50 60 Рис. 1. Зависимость удельного сопротивления от раз- меров характеризующих частиц в пленках TmS ПРИГОТОВЛЕНИЕ ТОНКИХ ПЛЕНОК TmS И ИХ ЭЛЕКТРОФИЗИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА 46 ЖФІП ЖФИП JSPE, 2017, т. 2, № 1, vol. 2, No. 1 зерен концентрация электронов умень- шается, что, в свою очередь, повышает температурный коэффициент сопротивления. Таким образом, измерения показывают, что электрофизические параметры тонких пленок моносульфида туллия сильно зави- сят от размеров зерен. Однозначное объяснение характера зави- симости электрофизических параметров от размеров характеризующих частиц в пленках TmS пока невозможно и требует проведения дополнительных экспериментов. ЛИТЕРАТУРА 1. Miodushevsky P. V. Potential application of SmSx material in microelectronics // ICEP Proceedings. — 2001. — P. 336–339. 2. Parashar V., Pandey Shiv K., Pandey Avinash C. Low-temperature synthesis of quantum size gad- olinium monosulfide (GdS) nanoparticles and their pathogen capture efficiency. — Chem. Com. — 2010. — Vol. 46. — P. 3143–3145. 3. Высоких А. С., Миодушевский П. В., Ан- дреев П. О. Получение изделий из SmS для электроники // Вестник Тюменского государственного университета. Химия. — 2011. — № 5. — С. 179–185. 4. Jabua Z. U., Kupreishvili I. L., Gigi- neishvili A. V. Preparation and electrical and optical properties of TbS films // Inorganic Materials. — 2014. — Vol. 50, No. 4. — P. 330– 333. 5. Semei V., Cahay M., Thien Binh Vu. Patchwork field emission properties of lanthanum mono- sulfide thin films // J. Vac. Sci. Technol. — 2006. — Vol. 24, No. 5. — P. 2412–2416. 6. Ярембаш Е. И., Елисеев А. А. Халкогениды редкоземельных элементов. — М.: «Наука», 1975. — 258 с. REFERENCES 1. Miodushevsky P. V. Potential application of SmSx material in microelectronics // ICEP Proceedings. — 2001. — P. 336–339. 2. Parashar V., Pandey Shiv K., Pandey Avinash C. Low-temperature synthesis of quantum size gadolinium monosulfide (GdS) nanoparticles and their pathogen capture efficiency. — Chem. Com. — 2010. — Vol. 46. — P. 3143–3145. 3. Vysokih A. S., Miodushevskij P. V., Andreev P. O. Poluchenie izdelij iz SmS dlya elektroniki // Vest- nik Tyumenskogo gosudarstvennogo universiteta. Himiya. — 2011. — No. 5. — P. 179–185. 4. Jabua Z. U., Kupreishvili I. L., Gigi-neishvili A. V. Preparation and electrical and optical properties of TbS films // Inorganic Materials. — 2014. — Vol. 50, No. 4. — P. 330–333. 5. Semei V., Cahay M., Thien Binh Vu. Patchwork field emission properties of lanthanum mono- sulfide thin films // J. Vac. Sci. Technol. — 2006. — Vol. 24, No. 5. — P. 2412–2416. 6. Yarembash E. I., Eliseev A. A. Halkogenidy redkozemel’nyh elementov. — M.: «Nauka», 1975. — 258 p. 60 α, 1 0–4 , К –1 40 20 0 10 20 30 40 L, нм 50 60 Рис. 2. Зависимость температурного коэффициента со- противления от размеров характеризующих частиц в пленках TmS 4 –L gR , с м 3 /К л 3 2 1 0 10 20 30 L, нм 40 50 60 Рис. 3. Зависимость постоянной Холла от размеров характеризующих частиц в пленках TmS 23 Ig n, с м –3 21 19 10 20 30 L, нм 40 50 60 Рис. 4. Зависимость концентрации электронов от раз- меров характеризующих частиц в пленках TmS