Микроскоп МКИ-2М
Предназначен для использования в технологическом процессе при производстве изделий электронной техники для контроля дефектов структур интегральных микросхем на фотошаблонах и полупроводниковых пластинах. Может применяться для исследования фотошаблонов и полупроводниковых пластин в светлом и темном п...
Gespeichert in:
| Datum: | 1999 |
|---|---|
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
1999
|
| Schriftenreihe: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/122690 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Микроскоп МКИ-2М // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 1999. — № 1. — С. 30. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | Предназначен для использования в технологическом процессе при производстве изделий электронной техники для контроля дефектов структур интегральных микросхем на фотошаблонах и полупроводниковых пластинах. Может применяться для исследования фотошаблонов и полупроводниковых пластин в светлом и темном поле отраженного света при разработке технологических процессов, в лабораторной практике и для массовых контрольных операций внешнего вида изделий при производстве ИС. |
|---|