Установка ремонта топологии на фотошаблонах ЭМ-5001АМ (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 1999)
Предназначена для ремонта и устранения дефектов фотошаблонов, используемых в производстве ИС, ГИС и полупроводниковых приборов. Устранение непрозрачных дефектов осуществляется путем воздействия сфокусированного лазерного излучения на маскирующее покрытие фотошаблона, устранение прозрачных дефектов — путем лазерно-стимулированного осаждения металлоорганического соединения.