Kim, C., Lee, S., Wang, B., & Xu, X. (2004). Radiological characterization of metal oxide semiconductor field effect transistor dosimeter. НТК «Інститут монокристалів» НАН України.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Kim, Chan-Hyeong, Sang-Hoon Lee, Baodong Wang, та X.George Xu. Radiological Characterization of Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor Dosimeter. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2004.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Kim, Chan-Hyeong, et al. Radiological Characterization of Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor Dosimeter. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2004.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.