Влияние расположения подложки относительно потока фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы на структуру и свойства покрытий TіN - Васильев, В.В.; Лучанинов, А.А.; Решетняк, Е.Н.; Стрельницкий, В.Е. (Вопросы атомной науки и техники, 2017)
Приведены результаты исследований влияния пространственного положения подложки в вакуумной камере на структуру и механические свойства покрытий TiN, полученных из фильтрованной вакуумно-дуговой плазмы при подаче высоковольтного импульсного потенциала смещения на подложку (PIII & D-метод). Установлено, что с увеличением расстояния от выходного отверстия фильтра до подложки в пределах 180…350 мм и угла ее наклона от 0 до 70 град, скорость осаждения покрытий уменьшается в 5 раз, однако остается на достаточно высоком уровне - около 2 мкм/ч. Покрытия TiN, независимо от пространственного положения подложки, имеют хорошие характеристики: одинаковый элементный и фазовый составы, низкую шероховатость поверхности, хорошую адгезию, высокую твердость (17…36 ГПа). Отмечено, что на структурные параметры TiN сильнее влияет угол наклона подложки, чем ее удаление от источника плазмы. С ростом угла размер областей когерентного рассеяния и уровень остаточных напряжений в покрытиях уменьшаются, а ось аксиальной текстуры [110] меняется на [100].