Влияние отжига на эмиссию вторичных частиц с поверхности циркониевого сплава - Афанасьева, И.А.; Бобков, В.В.; Грицына, В.В.; Ковтун, К.В.; Коппе, В.Т.; Литвинов, В.А.; Оксенюк, И.И.; Ховрич, С.В.; Шевченко, Д.И. (Вопросы атомной науки и техники, 2017)
Эмиссия вторичных ионов и возбужденных частиц при ионной бомбардировке исследована методами вторичной ионной масс-спектрометрии (ВИМС) и ионно-фотонной спектрометрии (ИФС). Установлено, что зависимость выхода вторичных частиц от дозы облучения (вплоть до 3,5·10¹⁷ ион·см⁻²) имеет различный вид для частиц, выбитых из химических соединений на поверхности и из объема мишени. Показано, что пространственное распределение излучения вторичных возбужденных частиц отличается для аморфного и кристаллического стекол. Из анализа влияния процесса резонансной ионизации на вероятность отлета частиц в возбужденном состоянии сделана оценка значения работы выхода объемного аморфного стекла Zr₄₁Ti₁₄Cu₀₁₂̦₅Ni₁₀Be₂₂̦₅ (3,93 < φ < 4,131 эВ).