Стиль цитування APA (7-ме видання)

Konovalov, V., Terpiy, D., Klyahina, N., Kostenko, I., & Vasetskaya, L. (2008). Structure of tantalum diboride thin films deposited by RF-magnetron sputtering. НТК «Інститут монокристалів» НАН України.

Чикаго стиль цитування (17-те видання)

Konovalov, V.A, D.N Terpiy, N.A Klyahina, I.G Kostenko, та L.A Vasetskaya. Structure of Tantalum Diboride Thin Films Deposited by RF-magnetron Sputtering. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2008.

Стиль цитування MLA (8-ме видання)

Konovalov, V.A, et al. Structure of Tantalum Diboride Thin Films Deposited by RF-magnetron Sputtering. НТК «Інститут монокристалів» НАН України, 2008.