Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx

За літературними даними розглянуто останні досягнення в області створення технологій отримання кремнієвих нанокристалів і нанокомпозитних плівок, що містять нанокристали кремнію в діелектричній матриці. Особливу увагу приділено двом найбільш перспективним методам – температурному та лазерному відпал...

Повний опис

Збережено в:
Бібліографічні деталі
Дата:2013
Автори: Гаврилюк, О.О., Семчук, О.Ю.
Формат: Стаття
Мова:Ukrainian
Опубліковано: Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України 2013
Назва видання:Поверхность
Теми:
Онлайн доступ:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147868
Теги: Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx / О.О. Гаврилюк, О.Ю. Семчук // Поверхность. — 2013. — Вип. 5 (20). — С. 69-82. — Бібліогр.: 29 назв. — укр.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-147868
record_format dspace
fulltext
spelling irk-123456789-1478682019-02-17T01:25:30Z Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx Гаврилюк, О.О. Семчук, О.Ю. Теорія хімічної будови і реакційної здатності поверхні За літературними даними розглянуто останні досягнення в області створення технологій отримання кремнієвих нанокристалів і нанокомпозитних плівок, що містять нанокристали кремнію в діелектричній матриці. Особливу увагу приділено двом найбільш перспективним методам – температурному та лазерному відпалу нестехіометричних плівок SiOx. Проведено теоретичне дослідження теплофізичних властивостей нестехіометричних плівок SiOx. Розрахований розподіл температури на поверхні плівок SiOx, опроміненних лазерним променем з різною інтенсивністю. Показано, що при лазерному відпалі з інтенсивністю лазерного променя 59 МВт/м² температура на поверхні плівок SiOx може досягати 2100 К. На основе литературных данных рассмотрены последние достижения в области создания технологий получения кремниевых нанокристаллов и нанокомпозитных пленок, содержащих нанокристаллы кремния в диэлектрической матрице. Особое внимание уделено двум наиболее перспективным методам - температурном и лазерном отжигe нестехиометрических пленок SiOx. Проведено теоретическое исследование теплофизических свойств нестехиометрических пленок SiOx. Рассчитано распределение температуры на поверхности пленок SiOx, облученных лазерным лучом с различной интенсивностью. Показано, что при лазерном отжиге с интенсивностью лазерного луча 59 МВт/м² температура на поверхности пленок SiOx может достигать 2100 К. The last achievements in the field of creation of technologies of receiving silicon nanocrystals and the nanocomposite films containing nanocrystals of silicon in a dielectric matrix are described. The special attention is paid to two methods - temperature and laser annealing of nonstoichiometric films of SiOx. Theoretical study of thermal properties of nonstoichiometric films SiOx. Temperature distribution on the surface of SiOx films by irradiation of laser beams with varying intensity is calculated. It is shown that laser annealing with the intensity of the laser beam 59 MW/m², the temperature on the surface of the SiOx films can reach 2100K. 2013 Article Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx / О.О. Гаврилюк, О.Ю. Семчук // Поверхность. — 2013. — Вип. 5 (20). — С. 69-82. — Бібліогр.: 29 назв. — укр. 2617-5975 http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147868 536.331:536.42 uk Поверхность Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language Ukrainian
topic Теорія хімічної будови і реакційної здатності поверхні
Теорія хімічної будови і реакційної здатності поверхні
spellingShingle Теорія хімічної будови і реакційної здатності поверхні
Теорія хімічної будови і реакційної здатності поверхні
Гаврилюк, О.О.
Семчук, О.Ю.
Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx
Поверхность
description За літературними даними розглянуто останні досягнення в області створення технологій отримання кремнієвих нанокристалів і нанокомпозитних плівок, що містять нанокристали кремнію в діелектричній матриці. Особливу увагу приділено двом найбільш перспективним методам – температурному та лазерному відпалу нестехіометричних плівок SiOx. Проведено теоретичне дослідження теплофізичних властивостей нестехіометричних плівок SiOx. Розрахований розподіл температури на поверхні плівок SiOx, опроміненних лазерним променем з різною інтенсивністю. Показано, що при лазерному відпалі з інтенсивністю лазерного променя 59 МВт/м² температура на поверхні плівок SiOx може досягати 2100 К.
format Article
author Гаврилюк, О.О.
Семчук, О.Ю.
author_facet Гаврилюк, О.О.
Семчук, О.Ю.
author_sort Гаврилюк, О.О.
title Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx
title_short Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx
title_full Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx
title_fullStr Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx
title_full_unstemmed Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx
title_sort температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок siox
publisher Інститут хімії поверхні ім. О.О. Чуйка НАН України
publishDate 2013
topic_facet Теорія хімічної будови і реакційної здатності поверхні
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/147868
citation_txt Температурний та лазерний відпал нестехіометричних плівок SiOx / О.О. Гаврилюк, О.Ю. Семчук // Поверхность. — 2013. — Вип. 5 (20). — С. 69-82. — Бібліогр.: 29 назв. — укр.
series Поверхность
work_keys_str_mv AT gavrilûkoo temperaturnijtalazernijvídpalnestehíometričnihplívoksiox
AT semčukoû temperaturnijtalazernijvídpalnestehíometričnihplívoksiox
first_indexed 2025-07-11T02:59:50Z
last_indexed 2025-07-11T02:59:50Z
_version_ 1837317793810219008