Анизотропия плотности критического тока в слоистом электронно-легированном сверхпроводнике Nd₂–xCexCuO₄+δ - Клепикова, А.С.; Попов, М.Р.; Иванов, А.А.; Медведев, М.В.; Чарикова, Т.Б. (Физика низких температур, 2019)
Представлены результаты исследования проводимости и плотности критического тока монокристаллических пленок Nd₂–xCexCuO₄+δ/SrTiO₃ с осью c, перпендикулярной или параллельной плоскости подложки, с концентрацией церия x = 0,15 и x = 0,17. Обнаружено, что в стехиометрически отожженных пленках с оптимальным содержанием церия (x = 0,15) величина анизотропии сопротивления максимальна, а анизотропия плотности критического тока составила 3 / 3 10 ab c c c j j ≅ ⋅ при T = 4,2 К. Сильная анизотропия плотности критического тока рассмотрена в рамках модели естественной сверхрешетки с чередующимися проводящими CuO₂-слоями и непроводящими буферными Nd(Ce)O-слоями. Показано, что высокая плотность критического тока вдоль проводящих CuO₂-плоскостей связана с пиннингом вихрей на буферных слоях, а сильная анизотропия плотности критического тока является следствием анизотропного движения вихревой решетки в слоистом сверхпроводнике.