Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals

The work is devoted to improvement of magnetron discharge parameters based on a standard magnetron sputtering system (MSS) of the MAG-5 type with an additional anode magnetic trap for discharge electrons in the conditions of localization of the discharge zone in the gap between electrodes to prevent...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2020
Автори:	Chunadra, А.G., Sereda, К.N., Tarasov, I.K., Vereshchaka, Y.A.
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
Назва видання:	Вопросы атомной науки и техники
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194663
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals / А.G. Chunadra, К.N. Sereda, I.K. Tarasov, Y.A. Vereshchaka // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 146-149. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

Method for measuring external and internal parameters of plasma with ungrounded gas discharge electrodes
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2019)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Application of pulse power supply for diamond coatings deposition in glow discharge plasma
за авторством: Koshevoy, K.I., та інші
Опубліковано: (2019)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system
за авторством: Zykov, A., та інші
Опубліковано: (2020)

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Plasma characteristics of two-step vacuum-arc discharge and its application for a coatings deposition
за авторством: Timoshenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2007)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

Modulation of negatively charged particle flux from penning discharge with metal hydride cathode
за авторством: Sereda, I., та інші
Опубліковано: (2023)

Coating in the arc discharges with plasma flow filtration
за авторством: Gasilin, V. V., та інші
Опубліковано: (2006)

Separation of negative hydrogen ions from penning discharge with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2016)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Plasma of underwater electric discharges with metal vapors
за авторством: Boretskij, V.F., та інші
Опубліковано: (2019)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings
за авторством: Aksenov, I.I., та інші
Опубліковано: (2000)

Deposition of TiO₂ thin films using atmospheric dielectric barrier discharge
за авторством: Klenko, Y., та інші
Опубліковано: (2008)

Experimental and numerical studies of pressure and gap length effects on energy deposition in spark discharge
за авторством: Korytchenko, K.V., та інші
Опубліковано: (2021)

The formation of the low-sized high density plasma structures in the self-maintained plasma-beam discharge
за авторством: Borisko, V.N., та інші
Опубліковано: (2006)

Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Structure and properties of the (Cr, Al)N coatings deposited by PIII&D method
за авторством: Vasyliev, V.V., та інші
Опубліковано: (2016)

Bone-like coatings deposition by using of modern pulsed ion-plasma technology
за авторством: Zykova, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)

The synthesis of the fine particles during plasma spray pyrolysis process
за авторством: Valinčius, V., та інші
Опубліковано: (2008)

Characteristics of TiN coating deposited by vacuum-arc method on rotating cylindrical sample
за авторством: Kalinichenko, A.I., та інші
Опубліковано: (2019)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Deposition of refractory metal films with planar plasma ECR source
за авторством: Fedorchenko, V.D., та інші
Опубліковано: (2007)

Emission characteristics and potential of macroparticle in beam-plasma discharge
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Application of coatings on inner surfaces of metallic and dielectric pipes with the use of HF -plasma source
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2005)

The influence of surface parameters of coatings deposited by various vacuum-plasma methods on the cell/material interaction in vitro tests
за авторством: Zykova, A., та інші
Опубліковано: (2007)

Dissipative structure in the glow discharge
за авторством: Ponomaryov, O.P., та інші
Опубліковано: (2008)

High-voltage gas-discharge current limiter-interrupter using high-density glow discharge
за авторством: Drozd, I.M., та інші
Опубліковано: (2016)

Investigation of characteristics of non-simultaneous arc discharge in titanium vapors in glow discharge electron evaporators
за авторством: Denbnovetskiy, S.V., та інші
Опубліковано: (2007)

Dusty discharges with secondary electron emission
за авторством: Chutov, Yu. I., та інші
Опубліковано: (2002)