Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system

Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system

The discharge characteristics of a new combined low energy magnetron-ion-source sputtering system are presented. The ignition curves, current-voltage characteristics of the system in dependence on gas pressure, magnitude and topology of magnetic field have been researched both for autonomous operati...

Повний опис

Збережено в:

Бібліографічні деталі
Дата:	2020
Автори:	Zykov, A., Yefymenko, N., Dudin, S., Yakovin, S.
Формат:	Стаття
Мова:	English
Опубліковано:	Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2020
Назва видання:	Вопросы атомной науки и техники
Теми:	Low temperature plasma and plasma technologies
Онлайн доступ:	http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/194668
Теги:	Додати тег Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
Назва журналу:	Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Цитувати:	Discharge characteristics of combined low energy ion source – magnetron sputtering system / A. Zykov, N. Yefymenko, S. Dudin, S. Yakovin // Problems of atomic science and tecnology. — 2020. — № 6. — С. 169-173. — Бібліогр.: 10 назв. — англ.

Репозитарії

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Схожі ресурси

Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016)

Solid ion source based on hollow-cylindrical magnetron sputtering discharge
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Optical and mass spectra from reactive plasma at magnetron deposition of tantalum oxynitride
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2021)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

The antimicrobial activity of magnetron sputtered Ag doped aluminum oxide coatings in vitro
за авторством: Safonov, V., та інші
Опубліковано: (2019)

Investigation of interaction between ion-beam plasma and processed surface during the synthesis of tantalum diboride and pentaoxide
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2019)

The energy balance of the asymmetric combined inductive-capacitive RF discharge at low pressure
за авторством: Zykov, A.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Development of additional magnetron discharge in the drift region of an ion source with closed electron drift
за авторством: Bordenjuk, I.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Oxygen activation effect on reactive magnetron synthesis of alumina coatings
за авторством: Walkowicz, J., та інші
Опубліковано: (2007)

New in development of negative hydrogen ion source with combined discharge
за авторством: Dobrovolsky, A., та інші
Опубліковано: (2016)

Redistribution of sputtered material in a plane ion-plasma system with an abnormal glow discharge
за авторством: Kuzmichev, A.I., та інші
Опубліковано: (2020)

The flow density of atoms sputtered from a cathode of cylinder magnetron
за авторством: Panchenko, O.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Features of high-current pulsed regimes in regimes in magnetron sputtering systems
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2005)

Using of electron cyclotron resonance discharge in ion beam sputtering systems for space charge compensation
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Control of ionization processes in magnetron sputtering system by changing magnetic field configuration
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2021)

Influence of magnetic field configuration and strength on plasma parameters and efficiency of coatings deposition in magnetron sputtering system
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2022)

Magnetron discharge intensification for effective deposition of coatings from difficult spray metals
за авторством: Chunadra, А.G., та інші
Опубліковано: (2020)

Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)

Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C., та інші
Опубліковано: (2002)

Dynamics of the ion energy distribution and plasma parameters in flows of the non-self-sustained arc discharge in molybdenum vapors
за авторством: Borisenko, A.G.
Опубліковано: (2023)

Ion energy and ion angular distributions in RF capacitively coupled plasma sources: pure argon and argon-oxygen mixtures
за авторством: Manuilenko, O.V., та інші
Опубліковано: (2006)

Microwave discharge as a source of light
за авторством: Brodsky, Yu.Ya., та інші
Опубліковано: (2005)

Improvement of penning ion sources
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2000)

Production of metal and dielectric films in a combined RF and arc discharge
за авторством: Gasilin, V.V., та інші
Опубліковано: (2003)

Transport processes in the low pressure gas discharge plasma
за авторством: Azarenkov, N.A., та інші
Опубліковано: (2003)

Ion kinetics in an ECR plasma source
за авторством: Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано: (2002)

Cylindrical magnetron based on the plasmaoptical principles
за авторством: Dobrovol's'kii, A.M., та інші
Опубліковано: (2007)

Investigation of ozone synthesis in the negative pulsed corona discharge in oxygen at the combined supply voltage
за авторством: Golota, V.I., та інші
Опубліковано: (2021)

Separation of negative hydrogen ions from penning discharge with metal-hydride cathode
за авторством: Sereda, I.N., та інші
Опубліковано: (2016)

The investigation of the optical spectra in process of magnetron deposition
за авторством: Demchishin, A.V., та інші
Опубліковано: (2008)

Studying CO₂ conversion in DC glow discharge
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)

DC gas breakdown and townsend discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Influence of voltage pulse duration on ignition of glow discharge in air
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2019)

Hall ion source with ballistic and magnetic beam focusing
за авторством: Bizyukov, A.A., та інші
Опубліковано: (2008)

Burning modes of a bipolar pulsed discharge in CO₂
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2020)

Forming a unipolar pulsed discharge in nitrogen
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2016)

The Langmuir probe modeling in ion-beam plasma
за авторством: Antonova, T.N., та інші
Опубліковано: (2003)

Ion source of reactive gases with decreased neutral gas inleakage
за авторством: Lymar, A.G., та інші
Опубліковано: (2005)

Glow discharge with a hollow cathode in carbon dioxide
за авторством: Lisovskiy, V.A., та інші
Опубліковано: (2022)

Thin niobium superconducting film prepared by modified cylindrical magnetron
за авторством: Langner, J., та інші
Опубліковано: (2000)