Методика определения параметров структурной и кластерной моделей толстых резистивных пленок
Применение современных средств компьютерной обработки изображения позволило создать физическую структурную и кластерную модели толстой серебропалладиевой резистивной пленки с учетом как топологических, так и метрических характеристик. Использование Оже-метода сделало возможным идентифицировать харак...
Збережено в:
Дата: | 2001 |
---|---|
Автори: | Стерхова, А.В., Ушаков, П.А., Жарков, П.Н. |
Формат: | Стаття |
Мова: | Russian |
Опубліковано: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2001
|
Назва видання: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70830 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Методика определения параметров структурной и кластерной моделей толстых резистивных пленок / А.В. Стерхова, П.А. Ушаков, П.Н. Жарков // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2001. — № 1. — С. 39-43. — Бібліогр.: 9 назв. — рос. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Размерно-геометрические параметры моделей микроструктуры толстых резистивных пленок
за авторством: Стерхова, А.В.
Опубліковано: (2002) -
Перспективные материалы для низкоомных толстопленочных резистивных элементов
за авторством: Смирнов, А.Н., та інші
Опубліковано: (2005) -
Метод жидкофазной эпитаксии толстых слоев
за авторством: Дранчук, С.Н., та інші
Опубліковано: (2013) -
Радиационная модификация структурной сетки халькогенидного стекла
за авторством: Кавецкий, Т.С., та інші
Опубліковано: (2008) -
Фотохромная чувствительность модифицированных пленок бактериородопсина для устройств молекулярной электроники
за авторством: Адамов, Г.Е., та інші
Опубліковано: (2005)