Малоинерционный линейный термопреобразователь сопротивления
Предложена тонкопленочная технология миниатюризации объемных медных термопреобразователей сопротивления. Термочувствительный слой формировался на жесткой подложке. Формирование бифилярной структуры осуществлялось с использованием процессов фотолитографии. Механическая прочность слоев и их временная...
Gespeichert in:
| Datum: | 2001 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України
2001
|
| Schriftenreihe: | Технология и конструирование в электронной аппаратуре |
| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/70842 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Малоинерционный линейный термопреобразователь сопротивления / В.В. Брайловский, О.Е. Иларионов // Технология и конструирование в электронной аппаратуре. — 2001. — № 2. — С. 47-48. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | Предложена тонкопленочная технология миниатюризации объемных медных термопреобразователей сопротивления. Термочувствительный слой формировался на жесткой подложке. Формирование бифилярной структуры осуществлялось с использованием процессов фотолитографии. Механическая прочность слоев и их временная стабильность обеспечивалась использованием адгезионного и трехслойного защитного слоя. Напыление адгезионного и защитного слоев Ti–W осуществлялось в едином технологическом цикле. |
|---|