Многослойные наноструктуры с высокой временной и пространственной дисперсией - Первак, Ю.А.; Первак, В.Ю. (Наносистеми, наноматеріали, нанотехнології, 2008)
Синтезированы многослойные структуры, содержащие 138, 165 и 202 чередующихся слоев Nb₂O₅ и SiO₂ на стеклянной подложке, которые характеризуются линейной спектральной зависимостью групповой задержки (GD) в диапазоне от 1520 до 1560 нм. Для 138-, 165- и 202-слойных структур изменение GD в указанном спектральном диапазоне равно 1544, 2056 и 2544 фс, а величина пространственной дисперсии – 2,55, 3,4 и 4,2 мкм/нм соответственно. Высокая пространственная дисперсия полученных структур и линейность спектральной зависимости групповой задержки обеспечивают высокую отрицательную дисперсию групповой задержки (< 2⋅10⁻⁵ фс²).