Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности
В работе описаны экспериментальные исследования импеданса индуктора в цилиндрическом источнике плазмы ВЧ индукционного типа. Представлены результаты измерений напряжения на индукторе, эффективных индуктивности и сопротивления. Сделан вывод, что в случае плазмы низкой плотности мнимой частью импеданс...
Saved in:
| Date: | 2008 |
|---|---|
| Main Authors: | , , |
| Format: | Article |
| Language: | Russian |
| Published: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2008
|
| Online Access: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/7889 |
| Tags: |
Add Tag
No Tags, Be the first to tag this record!
|
| Journal Title: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Cite this: | Возмущение импеданса индуктора, взаимодействующего с плазмой низкой плотности / Д.В. Рафальский, С.В. Дудин, К.И. Положий // Физическая инженерия поверхности. — 2008. — Т. 6, № 3-4. — С. 155-159. — Бібліогр.: 4 назв. — рос. |