Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings

In the present paper, the results studying the technological regimes of reactive magnetron sputtering in cluster set-up with two planar magnetrons, plasma source and medium energy ion source are presented. Magnetron current-voltage characteristics as well as dependencies of the magnetron current, vo...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2015
Hauptverfasser: Yakovin, S., Zykov, A., Dudin, S., Sergiec, M., Farenik, V.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2015
Schriftenreihe:Вопросы атомной науки и техники
Schlagworte:
Online Zugang:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82244
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, M. Sergiec, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
id irk-123456789-82244
record_format dspace
fulltext
spelling irk-123456789-822442015-05-28T03:02:00Z Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings Yakovin, S. Zykov, A. Dudin, S. Sergiec, M. Farenik, V. Низкотемпературная плазма и плазменные технологии In the present paper, the results studying the technological regimes of reactive magnetron sputtering in cluster set-up with two planar magnetrons, plasma source and medium energy ion source are presented. Magnetron current-voltage characteristics as well as dependencies of the magnetron current, voltage and the total pressure in the chamber on the reactive gas flow are presented with emphasis on the features of the joint work of the two magnetrons with targets of different materials using different reactive gases. The technological “window” is determined on the basis of the measured characteristics. Представлены результаты исследования технологических режимов реактивного магнетронного напыления в кластерной установке с двумя плоскими магнетронами и источником плазмы. Представлены ВАХ магнетронов, а также зависимости тока и напряжения магнетрона и давления в камере от потока реактивного газа с акцентом на особенностях совместной работы двух магнетронов с мишенями из различных материалов. На основании измеренных характеристик определено оптимальное "технологическое окно". Представлені результати дослідження технологічних режимів реактивного магнетронного напилювання в кластерній установці з двома плоскими магнетронами і джерелом плазми. Представлено ВАХ магнетронів, а також залежності струму і напруги магнетрона та тиску в камері від потоку реактивного газу з акцентом на особливостях спільної роботи двох магнетронів з мішенями з різних матеріалів. На базі виміряних характеристик визначено оптимальне "технологічне вікно". 2015 Article Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, M. Sergiec, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. 1562-6016 PACS: 52.77.-j, 81.15.-z http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82244 en Вопросы атомной науки и техники Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
institution Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
collection DSpace DC
language English
topic Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
spellingShingle Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
Yakovin, S.
Zykov, A.
Dudin, S.
Sergiec, M.
Farenik, V.
Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
Вопросы атомной науки и техники
description In the present paper, the results studying the technological regimes of reactive magnetron sputtering in cluster set-up with two planar magnetrons, plasma source and medium energy ion source are presented. Magnetron current-voltage characteristics as well as dependencies of the magnetron current, voltage and the total pressure in the chamber on the reactive gas flow are presented with emphasis on the features of the joint work of the two magnetrons with targets of different materials using different reactive gases. The technological “window” is determined on the basis of the measured characteristics.
format Article
author Yakovin, S.
Zykov, A.
Dudin, S.
Sergiec, M.
Farenik, V.
author_facet Yakovin, S.
Zykov, A.
Dudin, S.
Sergiec, M.
Farenik, V.
author_sort Yakovin, S.
title Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
title_short Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
title_full Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
title_fullStr Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
title_full_unstemmed Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
title_sort double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
publisher Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
publishDate 2015
topic_facet Низкотемпературная плазма и плазменные технологии
url http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/82244
citation_txt Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings / S. Yakovin, A. Zykov, S. Dudin, M. Sergiec, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2015. — № 1. — С. 187-189. — Бібліогр.: 6 назв. — англ.
series Вопросы атомной науки и техники
work_keys_str_mv AT yakovins doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings
AT zykova doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings
AT dudins doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings
AT sergiecm doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings
AT farenikv doublemagnetronclustersetupforsynthesisofmicroandnanostructurecoatings
first_indexed 2025-07-06T08:42:56Z
last_indexed 2025-07-06T08:42:56Z
_version_ 1836886394810662912