Berezhnyj, V., Berezhnaya, I., Voitsenya, V., Pinos, I., & Filippov, V. (2011). Effects of RF field rectification and accelerated electron beam generation in the torsatron U-3M during plasma production. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Berezhnyj, V.L, I.V Berezhnaya, V.S Voitsenya, I.B Pinos, та V.V Filippov. Effects of RF Field Rectification and Accelerated Electron Beam Generation in the Torsatron U-3M During Plasma Production. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2011.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Berezhnyj, V.L, et al. Effects of RF Field Rectification and Accelerated Electron Beam Generation in the Torsatron U-3M During Plasma Production. Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України, 2011.