Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур

В обзоре систематизированы основные результаты фундаментальных и прикладных исследований емкостного и индуктивного ВЧ разрядов, методы формирования интенсивных ионных потоков низкой энергии, полученные автором на протяжении 80-х – 90-х годов. Развита физическая концепция ВЧ разрядов низкого давлен...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2004
1. Verfasser: Фареник, В.И.
Format: Artikel
Sprache:Russian
Veröffentlicht: Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України 2004
Schriftenreihe:Физическая инженерия поверхности
Online Zugang:http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98483
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Высокочастотные разряды низкого давления в технологии малоэнергоемкого вакуумно-плазменного травления микроструктур / В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2004. — Т. 2, № 1-2. — С. 117–145. — Бібліогр.: 85 назв. — рос.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine