Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий
В настоящей работе проведен обзор экспериментальных исследований ионно-пучковой плазмы, возникающей в пространстве транспортировки широкого интенсивного ионного пучка низкой энергии при условиях, характерных для технологических систем ионно-лучевого травления. Описаны эксперименты, в которых дока...
Gespeichert in:
| Datum: | 2005 |
|---|---|
| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2005
|
| Schriftenreihe: | Физическая инженерия поверхности |
| Online Zugang: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/98720 |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Получение и транспортировка ионных пучков малых и средних энергий / В.И. Фареник // Физическая инженерия поверхности. — 2005. — Т. 3, № 1-2. — С. 4–29. — Бібліогр.: 63 назв. — рос. |
Institution
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Zusammenfassung: | В настоящей работе проведен обзор экспериментальных исследований ионно-пучковой плазмы,
возникающей в пространстве транспортировки широкого интенсивного ионного пучка низкой
энергии при условиях, характерных для технологических систем ионно-лучевого травления.
Описаны эксперименты, в которых доказана определяющая роль γ-эмиссии с поверхности
мишени в механизме автокомпенсации пучка. Приведены зависимости температуры
нейтрализующих электронов и потенциала ионно-пучковой плазмы от параметров системы в
различных режимах нейтрализации при использовании атомарных и молекулярных рабочих
газов, а также при наличии катода-нейтрализатора. Описана динамика функции распределения
электронов ионно-пучковой плазмы по энергиям, ее угловая зависимость, принципиальное
различие вида функции распределения электронов по энергиям при наличии и в отсутствие
термо-катода. Рассмотрен вопрос влияния типа ионного источника на общие закономерности
процесса нейтрализации. Изучено влияние термоэлектронной эмиссии на нейтрализацию
широкого интенсивного ионного пучка низкой энергии. Описан способ ионно-лучевой
обработки диэлектрических поверхностей, позволяющий управлять потенциалом поверхности
и обеспечивающий возможность оперативного контроля момента окончания травления
диэлектрика. |
|---|