Регулировка состава Ti-Al-N покрытий, осаждаемых с применением двухканального вакуумно дугового источника фильтрованной плазмы - Аксёнов, Д.С.; Аксёнов, И.И.; Лучанинов, А.А.; Решетняк, Е.Н.; Стрельницкий, В.Е. (Физическая инженерия поверхности, 2010)
Исследована возможность регулировки состава Ti-Al-N покрытий получаемых вакуумно-дуговым методом путём смешения потоков плазмы от генераторов с титановым и алюминиевым катодом. Фильтрация потоков осуществлялась с помощью общего для обоих генераторов Т-образного двухканального фильтра Установлено, что изменения содержания алюминия и титана в покрытии можно достичь путём регулировки соотношения разрядных токов в генераторах плазмы. Увеличение диапазона регулировки состава покрытия достигается путём подбора интенсивности магнитных полей в анодных секциях генераторов плазмы. Полученные покрытия однородны по составу на подложке диаметром 180 мм. Определены условия, позволяющие регулировать концентрацию алюминия в пределах от ∼14 вес.% до ∼60 вес.%.