Влияние параметров ВЧ-разряда и параметров нагревателя на температуру подложки в плазмохимическом реакторе «Алмаз» для синтеза углеродных алмазоподобных пленок - Гладковский, В.В.; Костин, Е.Г.; Полозов, Б.П.; Федорович, О.А.; Петряков, В.А. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2014)
Представлены результаты исследований влияния на температуру подложки параметров высокочастотного разряда в плазмохимическом реакторе «Алмаз», разработанном и изготовленном в Институте ядерных исследований. Определено время выхода на равновесную температуру подложки при различных параметрах ВЧ-разряда и параметрах основного нагревателя. Установлено, что в условиях данного исследования при температурах подложки выше 600°С влияние ВЧ-разряда на повышение ее температуры практически отсутствует.