Ускорение кинетических процессов в аморфном и нанокристаллическом нитриде бора при ионном облучении - Калиниченко, А.И.; Перепёлкин, С.С.; Стрельницкий, В.Е. (Вопросы атомной науки и техники, 2008)
В модели нелокального теплового пика (НТП) теоретически исследуется ускорение кинетических процессов в аморфном и нанокристаллическом BN при облучении ионами B⁺ с энергией E от 25 до 1000 эВ. Определены зависимости основных параметров НТП (радиуса R, коэффициента фононных потерь h, температуры T) от Е и характерного размера кристаллита d. Исследована энергетическая зависимость числа кинетических переходов w(E) в НТП для процессов с «большой» (U ≥ 1 эВ) и «малой» (U << 1 эВ) энергиями активации U. Обсуждаются количественные и качественные различия в поведении функции w( E ) для материалов с различными размерами кристаллитов.