Высокочастотный реактор с асимметричными электродами для плазмохимического травления полупроводников - Дудин, С.В.; Лисовский, В.А.; Дахов, А.Н.; Плетнёв, В.М. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2011)
Исследованы пространственное распределение параметров плазмы и однородность потока ионов, направленного на обрабатываемую поверхность в плазмохимическом реакторе. Полученные результаты могут быть использованы в технологиях производства микроэлектронных приборов.