Разработка процесса глубокого плазменного травления кремния для технологии трехмерной интеграции кристаллов - Голишников, А.А.; Путря, М.Г. (Технология и конструирование в электронной аппаратуре, 2014)
Исследованы зависимости технологических характеристик процесса глубокого травления кремния от его операционных параметров. Разработан и оптимизирован процесс глубокого плазменного травления кремния для создания сквозных отверстий с управляемым профилем.