Иващук, А., & В.П, К. (2000). Устройство для очистки и легирования поверхности полупроводника. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України.
Chicago Style (17th ed.) CitationИващук, А.В, and Кохан В.П. Устройство для очистки и легирования поверхности полупроводника. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2000.
MLA (8th ed.) CitationИващук, А.В, and Кохан В.П. Устройство для очистки и легирования поверхности полупроводника. Інститут фізики напівпровідників імені В.Є. Лашкарьова НАН України, 2000.
Warning: These citations may not always be 100% accurate.