Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки
В работе рассматривается влияние высокотемпературной обработки тонких (100 ÷ 500 нм) пленок оксида кремния на кремниевой подложке, полученных в вакууме методом электронно-лучевого испарения. Обнаружена структурная перестройка полученных тонких пленок SiOx и изменение их состава вплоть до SiO2 при вы...
Gespeichert in:
| Datum: | 2011 |
|---|---|
| Hauptverfasser: | , , , |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | Russian |
| Veröffentlicht: |
Науковий фізико-технологічний центр МОН та НАН України
2011
|
| Schriftenreihe: | Физическая инженерия поверхности |
| Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Zitieren: | Оптические свойства субмикронных пленок оксида кремния после высокотемпературной обработки / В.В. Литвиненко, В.Е. Родионов, Н.А. Родионова, И.Н. Шмидко // Физическая инженерия поверхности. — 2011. — Т. 9, № 4. — С. 346–349. — Бібліогр.: 6 назв. — рос. |