Application of arc plasma for a deposition of superconducting films

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films

This work was supported mainly by Italian INFN grant ARCO and DESY. The authors are grateful to Dr. S.Calatroni and Dr. C.Benvenuti of CERN for constant support of cathodes and samples substrates. We would like to thank Prof. M.Sadowski for help in the arrangement of the new laboratory in Swierk an...

Ausführliche Beschreibung

Gespeichert in:
Bibliographische Detailangaben
Datum:2002
Hauptverfasser: Langner, J., Russo, R., Catani, L., Tazzari, S., Cirillo, M., Czaus, K., Merlo, V., Tazzioli, F., Proch, D., Koval, N.N., Lopatin, I.V.
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України 2002
Schriftenreihe:Вопросы атомной науки и техники
Schlagworte:
Low temperature plasma and plasma technologies
Tags: Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
Назва журналу:Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine
Zitieren:Application of arc plasma for a deposition of superconducting films / J. Langner, R. Russo, L. Catani, S. Tazzari, M. Cirillo, K. Czaus, V. Merlo, F. Tazzioli, D. Proch, N.N. Koval, I.V. Lopatin // Вопросы атомной науки и техники. — 2002. — № 4. — С. 161-164. — Бібліогр.: 4 назв. — англ.

Institution

Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine

Ähnliche Einträge

Ähnliche Einträge