Havryliuk, O. O., & Semchuk, Y. (2013). Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Havryliuk, O. O., та Yu Semchuk. Temperature and Laser Annealing of Nonstoichiometric SiOx Films. 2013.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Havryliuk, O. O., та Yu Semchuk. Temperature and Laser Annealing of Nonstoichiometric SiOx Films. 2013.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.