Temperature and laser annealing of nonstoichiometric SiOx films
Gespeichert in:
Datum: | 2013 |
---|---|
Hauptverfasser: | O. O. Havryliuk, Yu. Semchuk |
Format: | Artikel |
Sprache: | English |
Veröffentlicht: |
2013
|
Schriftenreihe: | Surface |
Online Zugang: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000516567 |
Tags: |
Tag hinzufügen
Keine Tags, Fügen Sie den ersten Tag hinzu!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Institution
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASÄhnliche Einträge
-
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing
von: O. O. Gavrylyuk, et al.
Veröffentlicht: (2014) -
Study of the distribution of temperature profiles in nonstoichiometric SiOx films at laser annealing
von: O. O. Gavrylyuk, et al.
Veröffentlicht: (2014) -
Transformation of SiOx films into nanocomposite SiO₂(Si) films under thermal and laser annealing
von: Steblova, O.V., et al.
Veröffentlicht: (2014) -
Theoretical study on laser annealing of non-stoichiometric SiOX films
von: O. O. Gavrylyuk
Veröffentlicht: (2014) -
Transformation of SiOx films into nanocomposite SiO2(Si) films under thermal and laser annealing
von: O. V. Steblova, et al.
Veröffentlicht: (2014)