Стиль цитування APA (7-ме видання)

Rudenko, R. M., Voitovych, V. V., Krasko, M. M., Kolosiuk, A. H., Kraichynskyi, A. M., Yukhymchuk, V. O., & Makara, V. A. (2013). Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin.

Чикаго стиль цитування (17-те видання)

Rudenko, R. M., V. V. Voitovych, M. M. Krasko, A. H. Kolosiuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuk, та V. A. Makara. Influence of High Temperature Annealing on the Structure and the Intrinsic Absorption Edge of Thin-film Silicon Doped with Tin. 2013.

Стиль цитування MLA (8-ме видання)

Rudenko, R. M., et al. Influence of High Temperature Annealing on the Structure and the Intrinsic Absorption Edge of Thin-film Silicon Doped with Tin. 2013.