Rudenko, R. M., Voitovych, V. V., Krasko, M. M., Kolosiuk, A. H., Kraichynskyi, A. M., Yukhymchuk, V. O., & Makara, V. A. (2013). Influence of high temperature annealing on the structure and the intrinsic absorption edge of thin-film silicon doped with tin.
Chicago-Zitierstil (17. Ausg.)Rudenko, R. M., V. V. Voitovych, M. M. Krasko, A. H. Kolosiuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuk, und V. A. Makara. Influence of High Temperature Annealing on the Structure and the Intrinsic Absorption Edge of Thin-film Silicon Doped with Tin. 2013.
MLA-Zitierstil (8. Ausg.)Rudenko, R. M., et al. Influence of High Temperature Annealing on the Structure and the Intrinsic Absorption Edge of Thin-film Silicon Doped with Tin. 2013.
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