Behavior of hydrogen during crystallization of thin silicon films doped with tin

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Datum:2013
Hauptverfasser: R. M. Rudenko, M. M. Krasko, V. V. Voitovych, A. H. Kolosiuk, Yu. Povarchuk, A. M. Kraichynskyi, V. O. Yukhymchuk, M. V. Voitovych, Ya. Bratus, I. A. Zaloilo
Format: Artikel
Sprache:English
Veröffentlicht: 2013
Schriftenreihe:Ukrainian Journal of Physics
Online Zugang:http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000725625
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