Rahmati, A., & Khanzadeh, M. (2012). Effect of nitrogen partial pressure on reactive magnetron sputtering from Ti13Cu87 metalloid target: Simulation of chemical composition.
Чикаго стиль цитування (17-те видання)Rahmati, A., та M. Khanzadeh. Effect of Nitrogen Partial Pressure on Reactive Magnetron Sputtering from Ti13Cu87 Metalloid Target: Simulation of Chemical Composition. 2012.
Стиль цитування MLA (8-ме видання)Rahmati, A., та M. Khanzadeh. Effect of Nitrogen Partial Pressure on Reactive Magnetron Sputtering from Ti13Cu87 Metalloid Target: Simulation of Chemical Composition. 2012.
Попередження: стилі цитування не завжди правильні на всі 100%.