Comparison of optical properties of TiO2 thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
Збережено в:
Дата: | 2011 |
---|---|
Автори: | V. V. Brus, Z. D. Kovalyuk, O. A. Parfenyuk, N. D. Vakhnyak |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
2011
|
Назва видання: | Semiconductor Physics, Quantum Electronics and Optoelectronics |
Онлайн доступ: | http://jnas.nbuv.gov.ua/article/UJRN-0000349824 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNAS |
Репозитарії
Library portal of National Academy of Sciences of Ukraine | LibNASСхожі ресурси
-
Comparison of optical properties of TiO₂ thin films prepared by reactive magnetron sputtering and electron-beam evaporation techniques
за авторством: Brus, V.V., та інші
Опубліковано: (2011) -
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: S. V. Dudin, та інші
Опубліковано: (2005) -
Development of arc suppression technique for reactive magnetron sputtering
за авторством: Dudin, S.V., та інші
Опубліковано: (2005) -
Synthesis of thin-film Ta₂O₅ coatings by reactive magnetron sputtering
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2016) -
Structural and optical properties of Zn₁₋xCoxO thin films prepared by RF reactive sputtering technique
за авторством: Savchuk, A.I., та інші
Опубліковано: (2014)