Формування стiйких поверхневих структур при iонному розпорошеннi в рамках анiзотропної моделi Курамото–Сiвашинського
The processes of change of a surface morphology and formation of a stationary pattern at the ion sputtering are considered. A linear stability analysis was carried out, and the range of parameters, at which the patterning is possible, is determined. Assuming the existence of a stabilization paramete...
Gespeichert in:
| Datum: | 2019 |
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| 1. Verfasser: | |
| Format: | Artikel |
| Sprache: | English Ukrainian |
| Veröffentlicht: |
Publishing house "Academperiodika"
2019
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| Schlagworte: | |
| Online Zugang: | https://ujp.bitp.kiev.ua/index.php/ujp/article/view/2019061 |
| Tags: |
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| Назва журналу: | Ukrainian Journal of Physics |
Institution
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