Atmospheric DBD discharge modification of polyester fabric

за авторством Klenko, Y., Pichal, J., Aubrecht, L.
Опубліковано 2006

Accumulation and confinement of electrons in a penning trap with a central electrode

за авторством Man’kovsky, S.N., Sytnykov, D.A., Tarasov, I.K., Tkachenko, I.V., Tkachenko, V.I.
Опубліковано 2006

Application of atmospheric dielectric barrier discharge plasma for polyethylene powder modification

за авторством Píchal, J., Hladík, J., Špatenka, P., Aubrecht, L.
Опубліковано 2006

Experimental research of ICP reactor for plasma-chemical etching

за авторством Dudin, S.V., Zykov, A.V., Dahov, A.N., Farenik, V.I.
Опубліковано 2006

Vacuum-arc equipment for ion-plasma deposition of coatings

за авторством Aksenov, I.I., Belous, V.A.
Опубліковано 2000

Improvement of penning ion sources

за авторством Bizyukov, A.A., Bobkov, Vl.V., Kashaba, A.Y., Sereda, K.N.
Опубліковано 2000

Growth of raileigh-taylor type instability on the surface of discharge channel in liquid

за авторством Kononov, A.V., Porytskyy, P.V., Starchyk, P.D., Voitenko, L.M.
Опубліковано 2000

Industrial applications of TiO₂ films deposited by electron-beam-excited plasma of meter-size

за авторством Famakinwa, T., Ikezawa, S., Homyara, H., Yoshioka, T., Nakamura, K., Ninomiya, Y., Oda, H., Hara, T., Hori, M., Fujii, S., Yoshimura, K., Taoda, H.
Опубліковано 2000

Modernized technological accelerator with anode layer for ion cleaning

за авторством Dobrovol`s`kii, A.N., Goncharov, A.A., Pavlov, S.N., Panchenko, O.A., Protsenko, I.M.
Опубліковано 2002

Application of arc plasma for a deposition of superconducting films

за авторством Langner, J., Russo, R., Catani, L., Tazzari, S., Cirillo, M., Czaus, K., Merlo, V., Tazzioli, F., Proch, D., Koval, N.N., Lopatin, I.V.
Опубліковано 2002

Critical energy in the cyclotron heating of ions in an ECR plasma source

за авторством Gutiérrez-Tapia, C., Hernández-Aguirre, O.
Опубліковано 2002

Application of pulsed plasma streams for materials alloying and coatings modification

за авторством Byrka, O.V., Bandura, A.N., Chebotarev, V.V., Garkusha, I.E., Langner, J., Sadowski, M.J., Tereshin, V.I.
Опубліковано 2002

Dusty discharges with secondary electron emission

за авторством Chutov, Yu. I., Goedheer, W.J., Kravchenko, O.Yu., Lavrov, O.A., Romanenko, R.
Опубліковано 2002

Ion kinetics in an ECR plasma source

за авторством Gutiérrez-Tapia, C.
Опубліковано 2002

Influence of gas mixture with various mass numbers of gases on operation pressure range of plasma electron source with hollow cathode

за авторством Borisko, V.N., Petrushenya, A.A.
Опубліковано 2002

Large-area surface wave plasma source

за авторством Azarenkov, N.A., Bizyukov, A.A., Sereda, K.N., Tseluyko, A.Ph., Yunakov, N.N., Gapon, A.V., Kashaba, A.Y.
Опубліковано 2002

Investigation of jumping pulsed electrical discharge for plasma chemistry application

за авторством Berezina, G.P., Bunchikov, Ju.V., Mirny, V.I., Onishchenko, I.N., Us, V.S.
Опубліковано 2002

Magnetically filtered vacuum-arc plasma deposition systems

за авторством Aksenov, I.I.
Опубліковано 2002

Magnetic field influence on the shape of eroding surface of graphite cathodes

за авторством Aksenov, I.I., Vasil’ev, V.V., Omarov, A.O., Strel’nitskij, V.E.
Опубліковано 2002

The formation of near anode double layer in highcurrent plasma diode of low pressure

за авторством Tseluyko, A.F., Zinov’ev, D.V., Borisko, V.N., Tseluyko, V.A., Drobishevskaya, A.A.
Опубліковано 2002