Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis
In the present paper the results of technological approbation of the integral cluster set-up for synthesis of various types of high-quality coatings such as Al₂O₃, TiO₂, ZrO₂, AlN, TiN, and others with coating thickness up to 10 mkm are presented. Сurrent-voltage characteristics of magnetron dischar...
Збережено в:
Дата: | 2012 |
---|---|
Автори: | Yakovin, S., Dudin, S., Zykov, A., Shyshkov, A., Farenik, V. |
Формат: | Стаття |
Мова: | English |
Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2012
|
Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
Теми: | |
Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/109200 |
Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
Цитувати: | Technological aprobation of integral cluster setup for complex compound composites syntesis / S. Yakovin, S. Dudin, A. Zykov, A. Shyshkov, V. Farenik // Вопросы атомной науки и техники. — 2012. — № 6. — С. 220-222. — Бібліогр.: 6 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of UkraineСхожі ресурси
-
Integral cluster set-up for complex compound composites syntesis
за авторством: Yakovin, S.D., та інші
Опубліковано: (2011) -
Double magnetron cluster set-up for synthesis of micro and nano structure coatings
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2015) -
Plasma assisted deposition of TaB₂ coatings by magnetron sputtering system
за авторством: Yakovin, S., та інші
Опубліковано: (2017) -
Design and research of combined magnetron-ion-beam sputtering system
за авторством: Dudin, S., та інші
Опубліковано: (2018) -
Characteristics of discharge in crossed ЕxН fields near breakdown curve in acceleration and plasma regime
за авторством: Jamirzoev, A., та інші
Опубліковано: (2013)