Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms
The paper describes the peculiarities of deposition nano-sized titanium dioxide coatings in the cylindrical inverted gas magnetron. It is shown the influence of the main parameters magnetron sputtering, like as working gas pressure and temperature of substrate, on film grain size, porosity and optic...
Збережено в:
| Дата: | 2013 |
|---|---|
| Автори: | , , , |
| Формат: | Стаття |
| Мова: | English |
| Опубліковано: |
Національний науковий центр «Харківський фізико-технічний інститут» НАН України
2013
|
| Назва видання: | Вопросы атомной науки и техники |
| Теми: | |
| Онлайн доступ: | http://dspace.nbuv.gov.ua/handle/123456789/112173 |
| Теги: |
Додати тег
Немає тегів, Будьте першим, хто поставить тег для цього запису!
|
| Назва журналу: | Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine |
| Цитувати: | Gas magnetron deposition of structured TiO₂ nanofilms / A.M. Dobrovolskiy, A.A. Goncharov, E.G. Kostin, E.K. Frolova // Вопросы атомной науки и техники. — 2013. — № 4. — С. 311-314. — Бібліогр.: 11 назв. — англ. |
Репозитарії
Digital Library of Periodicals of National Academy of Sciences of Ukraine| Резюме: | The paper describes the peculiarities of deposition nano-sized titanium dioxide coatings in the cylindrical inverted gas magnetron. It is shown the influence of the main parameters magnetron sputtering, like as working gas pressure and temperature of substrate, on film grain size, porosity and optical properties of deposited TiO₂ nanofilms. The investigations were carried out with films up to 200 nm of thickness. |
|---|